化学气相沉积（cvd）技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。典型的cvd工艺过程是把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成所需薄膜的一种方法。由于cvd技术具有成膜范围广、重现性好等优点，被广泛用于多种不同形态的成膜。
北方华创凭借二十余年的半导体基础产品领域工艺设备研发经验，致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的cvd设备，满足客户的多种制造工艺需求。北方华创自主开发的卧式pecvd 已成功进入海外市场，为多家国际先进光伏制造厂提供pg电子官方网站试玩网的解决方案。而硅外延设备在感应加热高温控制技术、气流场、温度场模拟仿真技术等方面取得了重大的突破，达成了优秀的外延工艺结果，获得多家国内主流生产线批量采购。面向led领域介质膜沉积的pecvd设备，凭借优秀的工艺性能和产能优势，已成为led客户扩产优选设备。面向化合物半导体领域，碳化硅外延设备的各项技术指标也均已达到行业先进水平，批量机台已在各大主流厂商实现稳定量产。
