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半导体装备 semiconductor

epee 550

等离子体增强化学气相沉积系统

epee 550 等离子体增强化学气相沉积系统

epee 550 pecvd system

epee 550系列主要用于2~8英寸sio₂、sinₓ、sion等介质薄膜沉积工艺，单反应腔多片架构，兼具大产能和高性价比特点，广泛应用于led领域蓝绿、红黄光制程工艺。

设备特点

大容量载盘，兼容不同晶圆尺寸
良好的薄膜沉积均匀性
高功率在线清洗技术，清洗效率高
可选高、低频电源配置，薄膜应力可调
低拥有成本、低运营成本

产品应用

晶圆尺寸
8英寸及以下
适用材料
氧化硅、氮化硅、氮氧化硅
适用工艺
保护层、掩膜层、电流阻挡层
适用领域
半导体显示及照明、科研领域

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