eris e120r 8英寸单片减压硅外延系统
eris e120r 8 inch single wafer reduced pressure silicon epitaxy system
- 设备特点
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- 单工艺腔，占地面积小，操作简单
- 专业的气流场和温度场设计，获得良好的工艺性能
- 高精度的压力控制系统，保证成膜质量
- 友好的人机交互和全面的安全性设计，保障系统稳定、安全、高效
- 产品应用
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- 晶圆尺寸6、8英寸
- 适用材料硅
- 适用工艺埋层外延、选择性外延 、多晶外延
- 适用领域集成电路、功率半导体、衬底材料、科研领域
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