eris e120a主要用于5、6、8英寸硅外延工艺。该机台能够高度自动化运行工艺。系统主要由传输模块、工艺腔室模块、控制模块等组成。其中工艺模块是完成硅外延工艺生长的核心，主要包括加热系统、腔室系统和旋转升降系统，先进的红外控温系统可以实现温度的快速升降和稳定，从而保证了工艺的重复性和设备的稳定性，专业设计的气流场与温场保证了外延片良好的厚度均匀性、电阻率均匀性、零滑移线和低缺陷密度。专业的传输模块可以在兼容多种多种晶圆尺寸的同时实现良好的颗粒控制，工艺稳定性高。
