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功率器件 power devices
采用碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料、igbt及super junction等新结构制造的新一代功率器件，具有高速、低损耗的特点，在风电、光伏、有轨交通、调频调速等新兴产业上得到广泛应用。具有节能、节材、环保等效益，未来市场前景广阔。在功率器件领域，naura自主研发的薄膜/厚膜硅外延apcvd系统、刻蚀设备及金属溅射pvd已获得国内多家功率器件客户的认可和批量采购；为多条功率器件生产线提供清洗pg电子官方网站试玩网的解决方案；先进的卧式扩散/氧化系统可以满足功率半导体领域特殊工艺的应用。
氧化扩散设备 oxide/diff
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theoris 302／flouris 201 立式氧化炉是应用广泛、性能优良、产能突出的氧化成膜设备。
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theoris 302／flouris 201 立式退火炉是在中低温条件下，通入惰性气体（n2），优化硅片界面质量的一种设备。
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theoris 302 ／flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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theoris 302／flouris 201 立式合金炉是在低温条件下，通入惰性或还原性气体（n2/h2），优化硅片表面的一种设备。
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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卧式扩散/氧化系统可满足扩散、干/湿氧氧化、退火、合金等多工艺需求，广泛用于ic、power、pv、mems、led等领域。