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微机电系统 mems
采用微制造技术，集微型机构、传感器、执行器等于一体的mems器件，其小体积、集成化、智能化传感系统是未来传感器的发展方向，也是物联网的核心。在万物互联时代高速成长的大趋势下，其发展会受到来自智能硬件、智能汽车、智能工厂等领域的强大助力，并将向环境监测、医疗保健等领域不断扩展，具有十分广阔的前景。在mems领域，naura深硅刻蚀设备已批量销往多家科研机构及生产线，并获得了广泛的认可与好评；卧式lpcvd已成功应用于半导体级碳纳米管生长;并成功研发先进氮化铝薄膜沉积设备及工艺pg电子官方网站试玩网的解决方案。
等离子刻蚀设备 etcher
物理气相沉积设备 pvd
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应用于集成电路、功率器件、mems等领域的8寸pvd磁控溅射设备
化学气相沉积设备 cvd
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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epee550 是应用于led、power、mems等领域氧化硅sio2、氮化硅sinx、氮氧化硅sion薄膜沉积的pecvd设备。
氧化扩散设备 oxide/diff
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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卧式扩散/氧化系统可满足扩散、干/湿氧氧化、退火、合金等多工艺需求，广泛用于ic、power、pv、mems、led等领域。
清洗设备 cleaning tool
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12英寸单片清洗机广泛应用在90nm-28nm 集成电路、先进封装、微机电系统领域。
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全自动湿法腐蚀设备搭载多种先进干燥技术，可实现晶片干进干出。
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手动槽式清洗机功能灵活，配置丰富，操作界面友好，应用广泛。
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手动湿法腐蚀设备尺寸兼容性好，设备稳定性高，腐蚀均匀性好。
辅助设备 facility
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药液供给/回收系统为各研究所、高等院校等提供灵活的客户化定制机台，满足客户需求。
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用于对硅片或其他工件表面进行刻蚀或清洗工艺的需求
气体测量控制 gas measuring control
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cs200系列是可满足半导体、光伏、真空镀膜高端客户的数字式流量测控产品。
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流量显示仪/积算仪是为测控产品提供工作电源、操作控制等的显示仪表。
原子层沉积设备ald
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设备满足科研院所及大专院校对原子层沉积工艺要求；可根据客户需求量身定制硬件升级方案。