功率器件 power devices
采用碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料、igbt及super junction等新结构制造的新一代功率器件,具有高速、低损耗的特点,在风电、光伏、有轨交通、调频调速等新兴产业上得到广泛应用。具有节能、节材、环保等效益,未来市场前景广阔。在功率器件领域,naura自主研发的薄膜/厚膜硅外延apcvd系统、刻蚀设备及金属溅射pvd已获得国内多家功率器件客户的认可和批量采购;为多条功率器件生产线提供清洗pg电子官方网站试玩网的解决方案;先进的卧式扩散/氧化系统可以满足功率半导体领域特殊工艺的应用。
等离子刻蚀设备 etcher
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gde c200系列单片刻蚀机是应用于gan和sic功率器件领域的介质刻蚀设备,适用8英寸及以下晶圆。
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gse系列刻蚀机是应用于8英寸及以下iii-v族半导体、失效分析和研发等领域多种材料刻蚀工艺的干法刻蚀机。
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广泛应用在功率器件产业,用于igbt、mosfet及super junction中的deep trench刻蚀