8英寸立式中温氧化炉 -pg电子夺宝试玩

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半导体装备 semiconductor

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8英寸立式中温氧化炉

flouris x201p 8英寸立式中温氧化炉

flouris x201p 8 inch vertical mid-temp oxidation furnace

flouris x201p主要用于8英寸中温氧化及退火工艺。设备为批式热处理设备，由工艺腔室、传输系统、气体分配系统和温度控制系统等组成，具有片内均匀性好、自动化程度高、系统性能稳定的特点，可满足大规模集成电路生产线要求，可实现常规氧化及bpsg回流退火等工艺，温度控制可调，精度高。

设备特点

高精度温度场控制技术
先进的颗粒控制技术
图形化操作界面和设备数据群组管理系统

产品应用

晶圆尺寸
8英寸
适用材料
硅、碳化硅
适用工艺
干氧氧化、湿氧氧化、dce氧化、退火
适用领域
集成电路、功率半导体、化合物半导体、科研领域

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