12英寸立式大产能中温氧化炉 -pg电子夺宝试玩

pg电子夺宝试玩-pg电子官方网站试玩网产品&服务半导体装备氧化扩散设备 12英寸立式大产能中温氧化炉

半导体装备 semiconductor

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12英寸立式大产能中温氧化炉

tenesis x308p 12英寸立式大产能中温氧化炉

tenesis x308p 12 inch vertical large batch mid-temp oxidation furnace

tenesis x308p为立式单腔大产能炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化，该系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。

设备特点

高精度温度场控制技术
高稳定性工艺表现
高智能化自我侦测系统
大产能

产品应用

晶圆尺寸
12英寸
适用材料
硅
适用工艺
干氧氧化、湿氧氧化、dce氧化
适用领域
集成电路

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