theoris sn302d主要用于12英寸晶圆上的氮化硅薄膜低压化学气相沉积工艺，可覆盖高、低温氮化硅薄膜沉积。该机台可进行全自动工艺流程，系统主要由传输模块、工艺模块、控制模块和附属设备构成。升级版系统可实现原位清洗等功能，有效控制颗粒，降低维护时间，提高设备利用率。
