theoris a302立式退火炉在中低温条件下，通入n₂、h₂或d₂等气体，以消除硅片界面处金属及非金属晶格缺陷和晶格损伤，优化硅片界面质量，提升器件良率。该系统具备高精度的温度控制系统、良好的金属控制能力、高稳定的传输系统以及安全的特气处理装置，兼顾了良好的工艺指标、高产能和安全可靠性。
