12英寸立式中温氧化炉 -pg电子夺宝试玩

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半导体装备 semiconductor

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12英寸立式中温氧化炉

theoris x302p 12英寸立式中温氧化炉

theoris x302p 12 inch vertical mid-temp oxidation furnace

theoris x302p主要用于12英寸600℃-1000℃氧化及退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化。系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。

设备特点

先进颗粒控制技术
高精度温度场控制技术
先进的微环境氧含量控制技术
高产能

产品应用

晶圆尺寸
12英寸
适用材料
硅
适用工艺
干氧氧化、湿氧氧化、dce氧化、掺氮氧化、退火
适用领域
集成电路、功率半导体、衬底材料

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