12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机 -pg电子夺宝试玩

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半导体装备 semiconductor

nmc 612m

12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机

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nmc 612m 12 inch tin metal hard mask etcher

nmc 612m 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机是应用于40-28nm制程集成电路的金属干法刻蚀设备，用于氮化钛金属硬掩膜、高k值介质刻蚀、钨/钛/钽等金属及其化合物刻蚀等工艺。

设备特点

先进的线宽、形貌、均匀性控制能力
多区温控静电吸附卡盘提高晶圆温度控制能力
高产能，工艺稳定，低缺陷
脉冲等离子体射频技术可以减少等离子体诱导损伤

产品应用

晶圆尺寸
12英寸
适用材料
金属
适用工艺
tin hm刻蚀、高k值介质刻蚀、w/ti/ta等金属及其化合物刻蚀
适用领域
集成电路

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