8/12英寸通用物理气相沉积系统 -pg电子夺宝试玩

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polaris series

8/12英寸通用物理气相沉积系统

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polaris series 8/12英寸通用物理气相沉积系统

polaris series 8/12 inch pvd system

polaris系列pvd系统主要由大气平台，真空传输平台，去气腔室（degas），预清洁腔室和工艺腔室组成，设备采用cluster tool结构，可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室，适合封装领域薄膜制备大规模生产。polaris系列pvd为全自动大产能设备，具有反应腔自动开闭盖、晶圆自动传输、工艺去气、晶圆表面预清洁、薄膜沉积完全自动化等特点。

设备特点

专业的磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率
灵活的腔室配置，8/12英寸兼容
稳定的传输系统，兼容玻璃片、翘曲片、键合片等多种类型基片传输
稳定并且低的rc表现，良好的颗粒和应力控制能力
优化的工艺流程带来大产能表现，低运营成本

产品应用

晶圆尺寸
8/12英寸兼容
适用材料
铜、钛、氮化钛、钽、氮化钽、钨化钛、金、铝等
适用工艺
晶圆级先进封装中的ubm金属溅射、重布线
适用领域
先进封装、硅基微型显示

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