semiconductor
epee i800 等离子体增强化学气相沉积系统 epee i800 pecvd system
epee i800 pecvd设备利用等离子体促进沉积化学反应,使气相化学沉积能够在较低温度下形成高质量的固体薄膜,适用于sio2(sih4、teos)、sinx、sioxny等多种介质薄膜沉积。
epee i800是一款高度自动化的大产能pecvd设备,整机采用集群式(cluster)构架,配置有高自动化程度的晶片传送和装载系统,可搭配1~2个反应腔和1~2个功能腔(冷却、预热),扩展能力强。反应腔采用多站旋转式流水线构架,单腔内设6个沉积站,具有生产效率高、产能达的特点。独有的热衬高效清洗技术,而且设备本身设计有远程等离子体清洗(rps)的接口,能够提供更加高效、节能的清洗效果。
应用领域:
集成电路,功率半导体,微机电系统,led照明
适用工艺:
二氧化硅(sih4 sio2、teos sio2)、氮化硅(sinx)、氮氧化硅(sioxny)、掺杂硅玻璃(doped sio2)