聚“芯合力”，北方华创邀您共赴cstic 2022 -pg电子夺宝试玩
展会地点： 云端线上
展会时间：2022年6月14日-7月12日
中国国际半导体技术大会（cstic 2022）将于6月14日-7月12日在semi云端线上举行。近百位世界顶级专家汇聚一堂，共享前沿技术，内容涵盖ic设计、器件与集成、光刻、刻蚀、cmp、封装测试、化合物半导体等。
北方华创的资深专家们将在分论坛三- dry & wet etch and cleaning带来先进的刻蚀技术成果。在此，北方华创诚挚邀请您与我们一同交流探讨前沿刻蚀技术，推动产业进步，创造无限可能。
naura演讲时间
-symposium iii: dry & wet etch and cleaning-
session iii: feol/mol etching
演讲题目：《bitline etch process development for 1y nm dram manufacturing》
讲师：姚兴俊 先生
session iii: feol/mol etching
演讲题目：《200/150/100mm compatible, icp/ccp etch total solutions》
讲师：张轶铭 博士
session iv: plasma source and wet etch/clean
演讲题目：《sadp etch process development using pr core for sub 17nm dram》
讲师：徐力田 先生
session v: beol etching and memory etch
演讲题目：《hard mask etch process development for patterning 60nm magnetic tunnel junction》
讲师：李晓辉 女士
session vi: other etch and patterning
演讲题目：《trench etch for sic power devices》
讲师：谢秋实 先生
