北方华创发布12英寸去胶机实现去胶工艺全覆盖 -pg电子夺宝试玩
2023-07-01
2023年6月，北方华创正式发布12英寸去胶机ace i300，开拓12英寸刻蚀领域全新版图。去胶工艺作为刻蚀工艺的一种，是晶圆制造过程中的一个重要环节，光刻胶在完成图形复制和传递作用后能否去除干净直接影响到后续工艺是否能够进行，甚至关系到器件的性能。
ace i300主要应用于12英寸存储、逻辑、图像传感器等领域的去胶工艺，以良好的性能表现，实现刻蚀后去胶（post etch strip）、离子注入后去胶（post implant strip）、去残胶（descum）、表面处理（surface treatment）等去胶工艺全覆盖。
性能良好，多项关键工艺指标达到领域先进水平。ace i300依托北方华创多年的刻蚀经验积累，采用高密度、低损伤等离子源设计，同时配备北方华创成熟的远程icp（电感耦合等离子体源）技术，达到高水平的去胶速率，并实现去胶损伤抑制；采用独立腔室结构设计，实现均匀的流场分布，去胶均匀性表现良好；腔室壁配备独立控温系统，实现良好的颗粒控制水平。
以市场为导向，为客户创造更大价值。ace i300可配置大气、真空两种传输平台，满足客户不同工艺需求；同时，搭配双腔(twin-chamber)设计，产能表现优秀；机台维护便捷，关键耗材使用寿命长，满足客户低成本运维需求。
作为国产刻蚀设备的开拓者及引航者，北方华创将始终以科技创新为驱动，不断开拓刻蚀领域全新应用，助力更多客户实现更大价值，推动产业进步，创造无限可能！
ace i300主要应用于12英寸存储、逻辑、图像传感器等领域的去胶工艺，以良好的性能表现，实现刻蚀后去胶（post etch strip）、离子注入后去胶（post implant strip）、去残胶（descum）、表面处理（surface treatment）等去胶工艺全覆盖。
ace i300
性能良好，多项关键工艺指标达到领域先进水平。ace i300依托北方华创多年的刻蚀经验积累，采用高密度、低损伤等离子源设计，同时配备北方华创成熟的远程icp（电感耦合等离子体源）技术，达到高水平的去胶速率，并实现去胶损伤抑制；采用独立腔室结构设计，实现均匀的流场分布，去胶均匀性表现良好；腔室壁配备独立控温系统，实现良好的颗粒控制水平。
以市场为导向，为客户创造更大价值。ace i300可配置大气、真空两种传输平台，满足客户不同工艺需求；同时，搭配双腔(twin-chamber)设计，产能表现优秀；机台维护便捷，关键耗材使用寿命长，满足客户低成本运维需求。
作为国产刻蚀设备的开拓者及引航者，北方华创将始终以科技创新为驱动，不断开拓刻蚀领域全新应用，助力更多客户实现更大价值，推动产业进步，创造无限可能！
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