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itops i233溅射系统itops i233 sputter system
ito透明导电薄膜被广泛用作led芯片中的电流扩展层，实现芯片的均匀发光以及高出光效率。sputter ito相比于蒸镀ito，具有高沉积速率、高致密度以及高折射率的优势，已成为业内的主流工艺。itops i233 ito溅射系统采用rf dc溅射工艺，能够制备出具有优异导电性能和高可见光透过性能的ito薄膜，而且溅射过程中对底部gan发光基底造成的损伤小，可以有效提高led芯片的光电性能。itops i233 ito溅射设备结构简单，操作方便，运行稳定，工艺性能好，与国际竞争对手相比具有很高的性价比，市场份额持续增长。
应用领域：
半导体照明led
适用工艺：
ito电流扩展层
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