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promi 系列ald 系统 promi series ald system
promi系列ald设备是设计适用于科学研究、企业研发和大规模自动化生产的灵活、可靠的原子层沉积ald工艺平台。该设备非常适合从研发阶段的薄膜沉积扩大到大规模的工业化生产。
区别于普通cvd或pecvd原理，ald可沉积超薄的、高深宽比的膜层。promi系列ald设备是用加热的方式，通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制，可用于沉积多种薄膜。
promi系列ald设备通过气路、腔体结构设计、配合相应的工艺配方，成功实现了不同薄膜的沉积厚度可控性；此设备可升级更多的前驱体源和气路、高真空泵、原位清洗和其他选项；特殊设计的进气结构，解决了传统腔室的颗粒问题，使之具有良好的洁净度，改善产品的电性能和良率；设备系统易于安装维护，大大提高了装机和pm的周期。
应用领域：
集成电路， 半导体照明，功率半导体，微机电系统，先进封装
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