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gde c200系列等离子刻蚀机 gde c200 series plasma etcher
gde c200系列单片刻蚀机采用超高密度等立体源，刻蚀速率高、均匀性好，颗粒控制能力优异，易维护，性能稳定。其在gan、sic、sio2、al2o3等材料的刻蚀上性能优异、工艺窗口宽，易于同相关工艺整合。
本刻蚀机已在多条产线验证成功，积累了丰富的刻蚀经验，能提高gan和sic功率器件的性能，同时保证性价比。
本刻蚀机已在多条产线验证成功，积累了丰富的刻蚀经验，能提高gan和sic功率器件的性能，同时保证性价比。
应用领域：
功率半导体
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